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上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 射频离子源, 离子束可聚焦, 平行, 散射.

离子束流: >100 mA~1500mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000. 

采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长, 更适合时间长的工艺要求. 提供高密度离子束, 满足高工艺需求.

离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装

美国 KRI 射频离子源 RFICP 系列 应用领域：

伯东 KRI 射频离子源 RFICP系列离子源应用:

1. 离子辅助镀膜 IBAD 

2. 离子清洗 PC  

3. 表面改性, 激活 SM  

4. 离子溅镀IBSD  

5. 离子蚀刻 IBE  

美国 KRI 射频离子源 RFICP 系列 技术参数：