Hakuto 离子蚀刻机 10IBE
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C
Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE
KRI 聚焦型射频离子源用于制备类金刚石薄膜
KRI 考夫曼离子源 KDC 100 辅助镀制五金连接件铬膜
KRI 射频离子源用于碳化硅微纳结构表面刻蚀
KRI 聚焦型射频离子源 RFICP 380用于制备超薄 TEM 样品
晶圆 / 大规格 VR真空板（VP-900）
真空释放台 ( VRS-24 )
真空手泵 ( VHP-24 )
集成真空台 / 拾取工具 ( GP-TrayVac / A）
伯东 KRI 考夫曼射频离子源用于纯钛表面氨基化改性的研究
考夫曼离子源 KDC 160 辅助沉积高铝超硬涂层增强切削性能
伯东 KRI 无栅霍尔离子源 eH 3000 辅助镀制高质量光学薄膜
伯东 KRI 离子源用于大口径光学元件 KDP 晶体的溅射与刻蚀